Unterschied zwischen PWA-Polierpulver und WA-Polierpulver
PWA (plattenförmiges, kalziniertes Aluminiumoxid) und WA (weißes, geschmolzenes Aluminiumoxid) Polierpulver sind beides hervorragende Polierpulver. Als professioneller Hersteller von Aluminiumoxid-Polierpulvern möchten wir Ihnen die Unterschiede im Folgenden detailliert erläutern:
Artikel |
PWA Polierpulver |
WA Polierpulver |
| Form und Aussehen | Plättchenförmiger Kristall (plättchenförmig oder tafelförmig) | Unregelmäßig, facettenreich, fragmentiert, mit scharfer Kante |
| Hauptindex | Al2O3-Reinheit min. 99%, wobei die α-Al2O3-Phase die Hauptkristallphase ist, Mohs-Härte nahe 9,0. | Al₂O₃-Reinheit mind. 99 % mit hohem α-Al₂O₃-Phasenanteil, Mohs-Härte 9,0 |
| Polierfunktion | Durch effektives Schleifen wirken die PWA-Flachpartikel plangleitend auf die Werkstückoberfläche ein und vermeiden so Polierkratzer. | WA-Partikel ätzen die Oberfläche des Substrats, was zu einer starken Polierkraft und einer hohen Abtragsrate führt. |
| Herstellungsverfahren | Aluminiumoxidpulver mit Additiven wird in einem Drehrohrofen bei 1300 °C kalziniert, um ein Material in Form von plättchenförmigen Kristallen zu erhalten. Anschließend wird es gemahlen, gewaschen, ausgefällt und sortiert. | Aluminiumoxidpulver wird in einem Hochtemperatur-Elektrolichtbogenofen bei 2200℃ geschmolzen und raffiniert, anschließend abgekühlt, zerkleinert und danach gemahlen, gewaschen, ausgefällt und sortiert. |
| Partikelgröße | Die Dicke des PWA-Polierpulvers ist festgelegt, der Durchmesser liegt im Bereich von 3 bis 50 μm. | Es steht eine breite Palette an Partikelgrößen zur Verfügung, von 1µm bis 63µm, um Standardpartikelgrößen bereitzustellen. |
| Anwendung |
1. Elektronikindustrie: Schleifen und Polieren von einkristallinen Siliziumwafern für Halbleiter, CMP-Dünnung von Siliziumwafern, piezoelektrische Quarzkristalle und Verbindungshalbleiter (Galliumarsenid, Indiumphosphid).2. Glasindustrie: Schleifen und Verarbeiten von Kristallglas, Quarzglas, Kathodenstrahlröhren-Glasgehäusen, optischem Glas, Flüssigkristallanzeige-(LCD)-Glassubstraten und piezoelektrischen Quarzkristallen.3. Beschichtungsindustrie: Füllstoffe für Spezialbeschichtungen und Plasmaspritzen.4. Metall- und Keramikverarbeitungsindustrie: Präzisionskeramikwerkstoffe, Sinterkeramikrohstoffe, Hochtemperaturbeschichtungen usw. |
1. Verschleißfeste Füllstoffe: Verschleißfeste Füllstoffe für Keramikglasuren, Nutzschichten von Holzfußböden, verschleißfeste Beschichtungen, verschleißfeste Klebstoffe, Polyurethanharze, Kunststoffglas, Verbundbremsbeläge usw.2. Schleifmittel: Schleifmittel für Werkstoffe wie Hartmetall, Nichteisenmetalle, Edelstahl, Legierungsprodukte und Kalk-Natron-Glas.3. Rohstoffe für Schleifscheiben: Hauptschleifmittel für Ölsteine, Schleifpapier, Polierwachs, Gummischleifscheiben und Schleifflüssigkeiten sowie Hilfsstoffe für Diamant-Trockenschleifscheiben.4. Keramik: Keramikfolien, isolierende Keramikplatten, Wabenkeramik usw. |
| Geeignete Ausrüstung | Doppelseitige Polier- und Oberflächenpoliergeräte | Doppelseitige Polier-, Oberflächenschleif-, Mikrostrahl- und Sandstrahlanlagen |
| Auswirkungen auf Schleif- und Poliermaschinen | Die Thrombozytenstruktur weist eine glatte Oberfläche auf, was zu geringem Verschleiß an den Geräten führt. | Hohe Härte und Strukturen mit vielen scharfen Kanten verursachen einen hohen Verschleiß an den Geräten. |
